石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

KJ-T1050-CVD-LZ石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-01-21 15:27:48
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产品简介

产品介绍:KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成,温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合

详细介绍

产品介绍:
    KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ,温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。
软件控制系统:该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。
 
应用范围:
    该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
   
参数详情:

 
产品名称石墨稀、碳纳米管材料CVD设备
产品型号KJ-T1050-CVD-LZ
炉型结构卧式、单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸50--200mm
取片方式自动悬臂石英推拉舟,配合手动取、放片
温度1050℃
极限真空度优于1Pa
温度稳定性400℃~850℃≦+-0.5℃/24h
抽速抽限真空时间15min左右
供电电源380V 50Hz 三相五线
选配冷却水:2~4KGF/c㎡,8L/min
更多规格可根据需求定制

 

 

 

 1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障,均予以免费维修。保修期满后,仍提供终身的、优质的维修服务。
 2、在设备使用过程中如遇故障的,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
 3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
 4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
 5、本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)。
 6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。

 

 

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