双炉体CVD设备

KJ-T1200-W2双炉体CVD设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-02-23 15:35:57
120
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产品简介

产品介绍:该双炉体CVD系统为定制款,适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验

详细介绍

产品介绍:
    该双炉体CVD系统为定制款,适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品特点:
1、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2、气路快速连接法兰结构采用本公司的知识产权设计,提高操作便捷性。
3、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵
 防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。

参数详情:
 
产品型号 KJ-T1200-W2
管式炉部分
炉体结构 双层壳体结构,配有冷风系统自动降温炉壳温度不超过45℃
炉膛材质 真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,材料保温性能好、反射率高、温场均衡
温度 1200℃
使用温度 ≤1100℃
升温速度 推荐≤10℃/min,升温速度20℃/min
炉管材料 石英管
炉管尺寸  OD:50mm*ID:44mm* 长1400mm
管子中间部位开15mm,有个堵塞可堵上
加热区长度 200mm+200mm(双炉体)
炉膛开口 每个炉膛对应开宽10mm*长80mm的孔,并可封堵
法兰 不锈钢密封法兰,拆卸方便,法兰上装有精密针阀
温控系统 温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序;
1、采用PID方式调节控温,可设置30段升降温程序
2、控温精度±1ºC 
3、具有过温保护、断偶保护
4、仪表具有温度自整定的功能
加热元件 合金电阻丝
测温元件 2支K型热电偶分别独立控温
工作电源 AC220V,50Hz
额定功率 4KW
进出气口 法兰上含有进出气口和精密针阀
气路系统部分
质量流量计 二路精密质量流量计:数字显示、气体流量自动控制。
MFC1 N2 范围: 0-1000 sccm
MFC2 CO2范围: 0-1000 sccm
气路:2路
流量精度: 0.2%
进气和出气接口: 1/4" 卡套
每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。
通过控制面板上的旋钮来调节气体流量。
标准配置 主机1台,流量计1套、密封法兰1对,石英管1支,密封圈4个,炉堵2个,坩埚钩1把,高温手套1副、拆卸扳手2把、说明书1份、合格证保修卡1份

 

 

 

 

 

 1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障,均予以免费维修。保修期满后,仍提供终身的、优质的维修服务。
 2、在设备使用过程中如遇故障的,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
 3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
 4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
 5、本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)。
 6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。

 

 

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