美Jelight紫外臭氧清洗机&臭氧发生器美国JELIGHT公司成立于一九七八年，一直致力于为科研，工业生产领域设计和制造紫外相关产品。主要产品包括：Double Bore Lamps双筒灯 (低压汞蒸气)，Capillary Lamps毛细管水银灯(低压汞蒸气)，Grid Lamps隔栅灯(低压汞蒸气)，Aperture Phosphor Coated Lamps(低压汞蒸气)，中压灯Medium Pressure Lamps (UV Curing and Additive Lamps)，紫外臭氧清洗机UVO Cleaner，晶圆记忆消除器Wafer and EPROM Erasers (CHIPnERASER)，臭氧发生器Ozone Generator。

　
美国JELIGHT紫外臭氧清洗机
JELIGHT 紫外清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的安全、有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作过程中PDMS键合等。  


　
产品型号目录:



　
紫外清洗优点
• 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走。
• 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。
• 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。
• 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为 细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的*性。


相关应用
• 在进行薄膜沉积之前*行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
• 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片
• 清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器
• 蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料
• 增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
• 增强玻璃的除气作用
• 基片蓝膜去除
• 增强塑料表面的镀膜的粘附性
• 基片终测后墨迹清楚
• 去除光刻胶
• 平板显示器/液晶显示器
• 去除光刻机台上的光刻胶残留物
• 在电路板封装和打片之前清洗
• 光纤
• 增强表面亲水特性
• 为生物科学应用做清洗和消毒
• 光学透镜
• 其它应用

美Jelight紫外臭氧清洗机&臭氧发生器