SB-402曝光机（双面光刻机）

蓝星宇科技专业研发设计组装：紫外臭氧清洗机（UV清洗机），准分子清洗机，等离子清洗机等仪器设备。引进日本，德国，韩国*技术，设备已获得众多院校，研究所，高科技企业等客户*认可。 

  同时我们专注进口科学仪器设备及材料，主要代理有：德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机（双光子飞秒激光直写仪），德国 SUSS 苏斯光刻机，德国 Heidelberg 海德堡光刻机，美国 OAI 光刻机，德国 Raith 电子束光刻机，英国 Durtham 无掩膜光刻机，美国 Trion 刻蚀机.沉积机，德国 Sentech 刻蚀机.沉积机，德国 Optosol 吸收率发射率检测仪，日本 SEN  UV清洗机.UV清洗灯，美国Jelight UV清洗机，美国 Nano-master 晶圆清洗机，美国 Arradiance 原子层沉积机，德国 WL 微波离子沉积机，德国 Iplas 微波离子沉积机，美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统，德国 Diener 等离子清洗机等*技术产品；并可依据客户需求，研发定制相关仪器及材料。我们以具竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务，为中国半导体/电子/光电/生物//高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等客户提供设备仪器及材料。

产品参数

对准工作台指标:

 X向行程：±4mm

 Y向行程：±4mm

 旋转角θ向：±5°

 基片尺寸：Maxφ4″

 掩模尺寸：Max5″×5″

 双面对准精度：±0.003mm

□机械手构指标；

 机械手对下掩模分离间隙：0～100μm（当量1μm）

□曝光系统指标；

 光源：250W超高压汞灯

 波长：UV365

 大曝光面积；φ110mm

 曝光不均匀性：±3%

 曝光分辨率：3μm（正胶）

 汞灯冷却： 风冷

 曝光时间：0～999s 档量1s

□分离视场显微镜指标：

 总倍率： 65X

 视场：φ3.3mm

 物镜分离距离：26～70mm

□所需设施：

 输入电压：～220V±22V（50HZ）

 整机功率：1.5KW

 室内光线: 红色、黄色

 氮气（N2）:0.2～0.4MPa

 压缩空气:0.5～0.7MPa

 真 空 :－0.08～－0.1mPa

□体积及重量：

 重量： 480㎏

 外形尺寸:950㎜×850㎜×1500㎜

SB-402曝光机（双面光刻机）