Dateblat LabSpin 旋转匀胶机

实验室涂胶显影方案，大尺寸6”到8”

该系统根据实验室和研发用途定制开发，针对不同类型的光刻化学试剂设计，通过*的腔体设计，提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果.

 

LabSpin系统提供两种型号的设备，分别是桌上型（table-top，TT）和集成型（集成在湿化学槽中，Bench Module，BM），都可以完成大尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料，从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。

LabSpin设计了大量的选配件，适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。
 

蓝星宇科技专业研发设计组装：紫外臭氧清洗机（UV清洗机），准分子清洗机，等离子清洗机等仪器设备。引进日本，德国，韩国*技术，设备已获得众多院校，研究所，高科技企业等客户*认可。 

  同时我们专注进口科学仪器设备及材料，主要代理有：德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机（双光子飞秒激光直写仪），德国 SUSS 苏斯光刻机，德国 Heidelberg 海德堡光刻机，美国 OAI 光刻机，德国 Raith 电子束光刻机，英国 Durtham 无掩膜光刻机，美国 Trion 刻蚀机.沉积机，德国 Sentech 刻蚀机.沉积机，德国 Optosol 吸收率发射率检测仪，日本 SEN  UV清洗机.UV清洗灯，美国Jelight UV清洗机，美国 Nano-master 晶圆清洗机，美国 Arradiance 原子层沉积机，德国 WL 微波离子沉积机，德国 Iplas 微波离子沉积机，美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统，德国 Diener 等离子清洗机等*技术产品；并可依据客户需求，研发定制相关仪器及材料。我们以具竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务，为中国半导体/电子/光电/生物//高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等客户提供设备仪器及材料。

选项:

全自动

• ACS300 Gen3
• ACS300 Gen2
• ACS200 Gen3

半自动及手动

• LabSpin6 / LabSpin8
• RCD8
  
  亮点：
  。工艺多样化，包括涂胶和积水或显影，
  。可进行去除厚胶边，
  。滴胶位置可调节，允许中心滴胶和边缘涂胶。
  
  

Dateblat LabSpin 旋转匀胶机