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　　半导体超纯水制备工艺

　　超纯水设备一般采用反渗透作预处理再配上去离子(EDI)装置，利用反渗透原理，有效去除水中各种盐份、离子、颗粒，细菌等，有着产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保无污染、维护方便等优点，能满足客户的用水需求。

　　半导体超纯水制备工艺特点

　　1、设计参数准确、系统运行稳定;

　　2、仪器仪表完善，在线读取运行数据;

　　3、设备欠压或超压时，可及时报警停机;

　　4、自动化程度高，减少人力投入;

　　5、设备集成度高，便于运输与安装。

　　半导体超纯水制备工艺应用范围

　　1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。