二氧化硅/硅粉混合分散机 研磨机
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CMD2000二氧化硅/硅粉混合分散机 研磨机

参考价: 订货量:
165000 1

具体成交价以合同协议为准
2024-01-14 09:39:02
545
属性:
工作方式:高速万能研磨机;加工批量:2-L;介质尺寸:1-1-1mm;类型:专用研磨机;驱动方式:变频;驱动功率:4-KW;适用物料:通用;外形尺寸:1-1-1mm;行程:1-1-1mm;研磨篮容量:2-L;应用领域:通用;重量:50-kg;作用对象:其他;
>
产品属性
工作方式
高速万能研磨机
加工批量
2-L
介质尺寸
1-1-1mm
类型
专用研磨机
驱动方式
变频
驱动功率
4-KW
适用物料
通用
外形尺寸
1-1-1mm
行程
1-1-1mm
研磨篮容量
2-L
应用领域
通用
重量
50-kg
作用对象
其他
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上海依肯机械设备有限公司

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产品简介

硅粉高速研磨分散机,硅粉高剪切研磨分散机,二氧化硅/硅粉混合分散机,硅微粉湿法研磨分散机,硅粉高速研磨机,14000转高速研磨分散机研磨分散机是研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作

详细介绍

    硅粉高速研磨分散机,硅粉高剪切研磨分散机,二氧化硅/硅粉混合分散机,硅微粉湿法研磨分散机,硅粉高速研磨机,14000转高速研磨分散机,研磨分散机是研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

  
   硅粉(Microsilica 或 Silica Fume),也叫微硅粉,学名"硅灰",又叫硅灰,是工业电炉在高温熔炼工业硅及硅铁的过程中,随废气逸出的烟尘经特殊的捕集装置收集处理而成。

   从硅微粉与微硅粉性能或作用上硅业在线是这么划分的:硅微粉概括的说具备耐温性好、耐酸碱腐蚀、导热性差、高绝缘、低膨胀、化学性能稳定、硬度大等优良的性能。根据其用途硅微粉分为以下几类:普通硅微粉、电工级硅微粉、电子级硅微粉系列、熔融石英硅微粉、超细石英硅微粉、.纳米硅微粉。

    各种硅微粉的具体用途如下: 1.通硅微粉,主要用途用于环氧树脂浇注料、灌封料、电焊条保护层、金属铸造、陶瓷、硅橡胶、涂料及其它化工行业。

2.电工级硅微粉,主要用途用于普通电器件的绝缘浇注,高压电器的绝缘浇注,APG工艺注射料,环氧灌封料,高档陶瓷釉料等。

3.电子级硅微粉,主要用途主要用于集成电路、电子元件的塑封料和包装料。

4.熔融石英微粉,熔融石英微粉(WG)所用原料是天然石英经经高温熔炼,冷却后的非晶态SiO2,经多道工艺加工而成的微粉。该产品纯度高,具有热膨胀系数小,内应力低,高耐湿性,低放射性等优良特性。用于大规模及超大规模集成电路用塑封料,环氧浇注料,灌封料,及其它化工领域。

5.超细石英微粉,主要用途 主要用于涂料,油漆,工程塑料,粘合剂,奎 橡胶,精密铸造高级陶瓷。

6.纳米SiOx,纳米SiOx作为纳米材料中的重要一员,主要应用于电子封装材料、高分子复合材料、塑料、涂料、橡胶、颜料、陶瓷、胶粘剂、玻璃钢、药物载体、化妆品及抗菌材料等领域,已经成为传统产品的提档升级换代的新型材料。

 
    为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

 

硅粉高速研磨分散机,硅粉高剪切研磨分散机,二氧化硅/硅粉混合分散机,硅微粉湿法研磨分散机,硅粉高速研磨机,14000转高速研磨分散机

 
IKN研磨机国内研磨机比较:
转速和剪切力:
国内研磨机,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨机,9000/14000RPM通过皮带加速
线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造:
国内研磨机,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN研磨机,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
密封:
国内研磨机,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN研磨机,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至之低,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以之大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口之大压力可以达到12-13 bar .
产品效果:
国内研磨机,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
IKN高剪切研磨机 可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

80000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到之大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和之终产品的要求。

  
   
硅粉高速研磨分散机,硅粉高剪切研磨分散机,二氧化硅/硅粉混合分散机,硅微粉湿法研磨分散机,
硅粉高速研磨机,14000转高速研磨分散机研磨分散机是研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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