日本AMAYA株式会社天谷制作

高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列

与高清光掩模兼容的旋转式清洗设备

伍尔夫系列

清洁溶液高速扩散到清洁表面

快速消除异物和反应产物

无水痕干燥

特征

随着LSI变得越来越复杂，光掩模/光罩需要更高的清晰度和准确性。 我们的清洗设备有助于这些产品的高清洁度和产量提高，并合作生产更完整的产品。

配备使用功能水的旋转清洗单元，该单元可以通过工件旋转的离心力、臭氧水和添加氨的氢水排放去除有机物、金属离子和异物，直至检测极限水平。 通过切换和清洁每个清洁溶液，可以高速去除工件上的不纯沉积物，废液管理也是一种**的环境响应工具。

采用

替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ・实现完整的室温清洗（无需高温工艺） ・减少口罩

上化学溶液的残留量

・更**的废液处理（ISO14000措施）

SC-1 → 氢水加氨

・MoSi半色调掩膜的蚀刻预防

性能

PSM *终清洁（无 SPM）

类别

不。

项目

规范

空白

1

无颗粒

>32纳米

2

预置%

≧95%

图像层

（图案侧）

3

QZ 上的剩余软缺陷

≧0.05微米 （产率 ： 98%）

4

移位器上剩余的软缺陷

≧0.05微米， ≦10个 （产率 ： 98%）

5

SRAF（深色）缺失

没有遗漏

6

图案损坏、静电放电、划痕

无损坏

7

换档器变化（相位）

≦-0.2 度，平均清洁 10 倍

8

换档器（变速器）

≦0.025%，平均清洁 10 倍

9

换档器（CD 平均值）

≦0.15nm，平均清洁度为10倍

10

换档器（CD 范围）

≦0.5nm，平均清洁度为10倍

离子残基

11

化学残留物 （SO4）

≦0.5 ppb

12

化学残留物（NH4）

≦17.0 ppb

原理图规格

大小

清洗装置本体

7300毫米（宽） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高）

电源箱

1400毫米（宽） x 500毫米（深） x 2150毫米（高）

化学溶液盒

2500毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）

过滤器框

2600毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）

热滴机组

1250毫米（宽） x 550毫米（深） x 1750毫米（高）

氢水和碳酸水装置

1050毫米（宽） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高）

臭氧水机组

570毫米（宽） x 850毫米（深） x 2000毫米（高）

效用

・三相200V、・单相100V、・DIW、・冷却水、・清洁干燥空气、・氮气、・一般排气、・酸性排气、・碱性排气