- ￥75000≥1 台
起订量：
GM2000 实验室高剪切胶体磨
- 型号
- GM2000
该企业相似产品
上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN*工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的*技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等，培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才！在德国SGN工业设备的基础上，思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备，为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才，能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队，我们将致力于为客户提供整套的售后服务，在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
“业精于专”是思峻公司的宗旨，专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺，我们坚信专注打造精品，专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰！
详细信息
GM2000
实验室
高剪切
胶体磨
高校研究院实验室胶体磨，试验室胶体磨，小型胶体磨，德国实验室胶体磨，高转速实验室胶体磨
此款实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到
4-5倍以上，研磨效果非常好，转速可以达到14000RPM。
高校研究院实验室胶体磨的研磨效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
:
1.胶体磨磨头头的剪切速率（越大，效果越好）
2.胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3.物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4.循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，便不能再好）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率
(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子
-定子间距。
IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm
速率
V=3.14XD（转子直径）X转速RPM/60
实验室胶体磨
,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
GM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 实验室胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
GM2000
实验室
高剪切
胶体磨
设备选型表
:
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入
/出口连接
DN
GM2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
GM2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
GM2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
GM2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
GM2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
GM2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
