紫外臭氧清洗机

HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9

型

仪器简介

紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧

化

铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。

低压紫外汞灯能够同时发射波长

254nm

和

185nm

的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而清除粘附在样品表面上的有机污染物。

应用领域

1

、

PCBA

（

印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；

2

、

LCD

、

OLED

生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；

3

、

集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；

4

、

可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀

膜质量等场景；

5

、

对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。

功能特点

1.1

采用

5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气

路流量等流程参数

；

1.2

加热、升降一体式样品台，升降行程

50mm, 便于样品与UV灯间距的调整

；

1.3

样品台恒温控制，智能

PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃

；

1.4

流量、加热、

UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断

；

1.5组合式

处理方式

，

可

自由

选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路

；

1.6

自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘

；

1.7

安全

可靠，

设备运行过程中，清洗

仓仓

盖打开

时

自动关闭

UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害

；

1.8

标配流量数字化显示

(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量

；

1.9

上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷

；

1.10

波长

254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化

；

1.11一键化操作，减少工作强度。

技术参数

仪器型号

UV

O

-

3

UV

O-6

UV

O-9

外观图片

栅格灯尺寸

/mm

2

20*270

130*130

230*230

样品台尺寸

/mm

2

20*270

150*150

220*270

样品台升降行程

/mm

5

0

50

50

加热温度范围

/

℃

室温

-

200

℃

流量范围

(ml/min)

选配

0-1000

0-1000

外形尺寸

(L*W*H)/mm

4

50*390*270

445*300*245

500

*3

6

0*2

50

主机重量

/kg

10

11.5

15

UV

光波长

185nm、254nm

UV

灯管

双波长灯管

一体式低压汞蒸气栅格灯

灯管寿命

约

5

000小时

约

8000小时

机身材质

3

04

不锈钢、塑料

304不锈钢和氧化铝

安全防护功能

-

-

仓

盖打开时，灯管自动熄灭