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CMSD2000 复方*油混悬液制剂胶体磨
- 型号
- CMSD2000
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上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业，依肯通过引进*和科学管理模式，形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步，同时拥有XX的技术研究人才和生产能力，为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的lin先者。
公司主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一高剪切分散乳化机，二 均质机，三 粉液混合设备，四 胶体磨，五 搅拌机，六干燥机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域，并成功为国家重点工程配套，部分产品返销国外，取得了显著的经济效益和社会效益。
详细信息
复方*油混悬液制剂
胶体磨，*油混悬液研磨分散机，*微分团聚分散机，高产能胶体磨，
14000rpm胶体磨，德国进口胶体磨，长时间运行胶体磨，管线式胶体磨
IKN研磨分散机
设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。
随着抗生素*大剂量的广泛使用，细菌耐药性、药物残留等问题被普遍关注，并且多年来动物疾病愈发复杂，混合感染情况多，抗生素的合理的联合应用显得愈发重要。复方制剂是由两种或两种以上药物组成，如果配伍得当，可降低药物毒性、改善活性、扩大抗菌谱、减少用量，减少和延缓耐药菌株的产生等，对于单药无法治疗的混合感染也有很好的疗效。
解决*容易降解、半衰期短、抗菌谱窄等诸多不足之处。本发明的新组方和制备工艺具有药物不降解，半衰期长，*缓释，抗菌谱广，协同增效等诸多优点。适用于部分耐药菌株感染、混合感染疾病的需要。
先将*初步混悬液
加入
胶体磨，
调节
转速，
胶体磨研磨粒径
5-10um,将过胶体磨
研磨好的
溶液投入配液灌，加入剩余胶体液，定容，搅拌。过高压均质机混匀。
便得到*混悬液。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在
73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前普通设备转速的4-5倍。
从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率
(s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子
-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率
V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入/出口连接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到允许量的
10%
复方*油混悬液制剂
胶体磨，*油混悬液研磨分散机，*微分团聚分散机，高产能胶体磨，
14000rpm胶体磨，德国进口胶体磨，长时间运行胶体磨，管线式胶体磨
