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CMD2000/10 CMD2000甘草粉超细湿法胶体磨

型号
CMD2000/10
参数
生产能力:700-100000kg/h 应用领域:医药工业
上海依肯机械设备有限公司 0免费会员 生产厂家

该企业相似产品

乳化机,分散机,乳化机,混合机,胶体磨

上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进*和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有XX的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的lin先者。

公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二 均质机,三 粉液混合设备,四 胶体磨,五 搅拌机,六干燥机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为国家重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。



详细信息

CMD2000甘草粉超细湿法胶体磨

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IKN

研磨机效率高、轻便、整机模块结构,操作方便,可长时间运转,轻松满足多种高要求的分散乳化实验。可在实验室模拟在线工况进行循环或在线连续处理,具有高效均质无分散死角等

 

甘草具有抗炎、抗bian态反应的作用,这主要来自于甘草酸铱--甘草酸及甘草次酸盐,还能抑制毛细血管通透性。肾上腺皮质激素样作用,甘草具有盐皮质甾醇样作用和糖皮质类甾醇样作用。其激素样作用的原理,有人认为是甘草次酸的化学结构与肾上腺皮质激素有相似之点,是一种直接作用,但也有人认为是间接作用,即甘草次酸抑制了肾上腺皮质甾醇类在体内的破坏,因而血中含量相应增加。同时,甘草黄铜还有抑制*酶活性、清除氧目由基,其抗氧化能力与*比较接近

 

客户原始样品120目,希望通过高剪切研磨机能够达到10微米以下,依肯给出了两种方案,一种采用CMSD2000/4湿法高剪切研磨机12000rpm转速下一遍两遍测试效果;第二种采用依肯推出的ERX4000/4超高速湿法分散机,线速度66m/s,21000rpm转速下一遍两遍测试效果。目测效果是很明显的,客户也是比较满意.

 

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前设备转速的4-5倍。

 

根据一些行业特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使

粒径范围小到纳米级

。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。由于能量密度*,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

 

CMD2000甘草粉超细湿法胶体磨

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湿法研磨机的特点:

1

、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2

、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3

、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4

、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改x方向。

5

、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.

研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.

研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.

研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.

物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.

循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   

               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 

IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

CMD2000

系列研磨分散机设备选型表

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 

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产品参数

生产能力 700-100000kg/h
应用领域 医药工业

规格类型

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
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