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GM2000 氧化锆陶瓷高剪切胶体磨
- 型号
- GM2000
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上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN*工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的*技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等，培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才！在德国SGN工业设备的基础上，思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备，为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才，能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队，我们将致力于为客户提供整套的售后服务，在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
“业精于专”是思峻公司的宗旨，专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺，我们坚信专注打造精品，专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰！
详细信息
氧化锆陶瓷高剪切胶体磨
陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子，二组陶瓷定子组成，在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转，使陶瓷转子甩出，紧贴陶瓷定子，产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中，**、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中，通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用，使物料经过研磨后细度大大提高，再通过适量的添加剂共同作用，使产品快速、均匀、分散、乳化，研磨，避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点，效能比原来有胶体磨提高3倍以上，特别是对金属污染要求特别高的企业，如电子和电池行业，可以达到更高品质产品。
陶瓷胶体磨，包括氧化锆陶瓷胶体磨，氧化铝陶瓷胶体磨，氮化硼陶瓷胶体磨，但是硬度**的是氧化锆陶瓷胶体磨
氧化锆陶瓷胶体磨用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
GMSD2000
系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上，**的转速可以达到14000RPM.所以可以达到更好的分散湿磨效果。
以下为型号表供参考：
型号
标准流量
L/H
输出转速
rpm
标准线速度
m/s
马达功率
KW
进口尺寸
出口尺寸
GM2000/4
400
18000
44
4
DN25
DN15
GM2000/5
1500
10500
44
11
DN40
DN32
GM2000/10
4000
7200
44
22
DN80
DN65
GM2000/20
10000
4900
44
45
DN80
DN65
GM2000/30
20000
2850
44
90
DN150
DN125
GM2000/50
60000
1100
44
160
DN200
DN150
氧化锆陶瓷高剪切胶体磨
