$item.Name
$item.Name
$item.Name

首页>食品通用设备>混合设备>分散机

GMD2000 光刻胶去除剂高剪切分散机

型号
GMD2000
上海思峻机械设备有限公司 0优享会员 生产厂家

该企业相似产品

胶体磨,乳化机,分散机,均质机,研磨机,混合机
  上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
  公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
  公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
  “业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!


详细信息

  

光刻胶去除剂高剪切分散机

 

  

产品名称关键词:光刻胶去除剂分散机,高剪切清洗液均质机,氧化物抛光液研磨分散机,超高速三级乳化机

 

  

二、光刻胶去除剂

 

  根据光刻胶下游应用领域不同,公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品,是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的湿化学品,通过将半导体晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片,去除半导体晶片上的光刻胶残留物。

 

  

三、光刻胶去除技术

 

  随着集成电路技术的发展,其关键尺寸逐渐降低到亚微米。湿法蚀刻工艺因其各向同性蚀刻特性,越来越不能满足需求,干法蚀刻工艺应运而生。干法蚀刻工艺提供各向异性蚀刻形成金属线(metal)、通孔(via)的同时,其离子束对光刻胶及铝硅铜、铝铜、氧化物非介电质材质进行轰击,使其表面形成高度交联的光刻胶残留物,同时因氩气轰击反溅作用,侧壁富含金属材质。干法灰化工艺的采用,使其残留物中含有有机、无机氧化物及其金属化合物。这就要求光刻胶去除同时具有有机残留物、无机残留物以及金属交联残留物去除能力。

 

四、光刻胶剥离液氧化物分散问题

 

  在制备光刻胶去除剂中,需要加入一些无机氧化物或金属化合物,以粉体的形式加入液中,纳米的细小颗粒与液体介质充分接触时候,粒子相互之间的团聚力导致粉体出现团聚现象,光刻胶去除剂的技术要求,需将氧化物粉体在液相中均质打开,分散均匀。GRS超高速研磨分散机是我公司好技术的主要产品,可很好的解聚,均质,分散。得到更稳定的悬浮液。

 

  

五、GRS超高速研磨分散机的优势

 

  研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

  研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

 

  超高剪切速率,SID研磨分散机,转速高达18000rpm,线速度为44m/s,剪切速率为约为200000 S-1。而国内普通分散机的转速一般为3000rpm,我们的转速是他们的4-5倍。

 

  超细定转子间隙,SID研磨分散机定转子间隙一般为0.2-0.3mm,而国产分散设备一般为0.5-0.7mm,间隙越小研磨分散效果越好。

 

  高精密度磨头分散盘定转子,分散盘分为粗、中、细、超细齿。

 

  4、全新的结构设计,将胶体磨和分散机一体化的设备,胶体磨磨头+分散盘定转子,先研磨后分散效果更佳。

 

  

六、高剪切研磨分散机

 

  研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

 

  *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

  第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求

 

光刻胶去除剂高剪切分散机

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

GRS2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

GRS2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

GRS2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

GRS2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

GRS2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

GRS2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

规格类型

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

温馨提示

该企业已关闭在线交流功能