1200℃真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚，和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。工作温度区间800℃至1200℃。该系列设备的控制系统具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

1200℃真空井式坩埚炉主要用途：高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。

1200℃真空井式坩埚炉技术参数