半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

　　集成电路芯片超纯水设备原理

　　EDI超纯水系统是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，被吸附的离子在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜、阳膜和隔板多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜、阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留，水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水。而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。制取超纯水的这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水。

　　集成电路芯片超纯水设备优势及特点

　　1、工作压力高，不漏水：由于模块采用了橡胶O型圈多层密封，保证了模块耐压高、不漏水。

　　2、无化学物质使用：由于浓水中填充了技术树脂，降低了膜电阻，因此系统中不需要浓水循环及注盐在淡水室填充分层排列树脂，更有利于弱电解质的祛除。

　　3、系统简单，配管简单，仅需3支配管(进水管，产品水管和浓水管)，无循环泵及注盐系统，不需要PLC程序控制器，系统建造成本和维护费用低。

　　4、浓水回收，浓水水质(20-100μS/cm)优于原水水质，可回收至RO前继续使用。

　　5、其他优势，系统不注盐，因此不产生氯气破坏模块内部结构及污染周围环境，独立的模块电源控制，单一模块需维修，不影响其他模块正常工作。

　　EDI超纯水系统的应用领域

　　EDI超纯水系统适用于电子、半导体、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路、精密机械行业超纯水，食品、饮料、饮用水的制备，精细化工、精尖学科用水，其他行业所需的高纯水制备，制药工业工艺用水，海水、苦咸水的淡化，制药行业用水大输液、针剂、片剂、生化制品、设备清洗等，海水、苦咸水淡化，汽车、家电涂装、镀膜玻璃、化装品、精细化学品等用超纯水。