电子工业超纯水设备

电子工业超纯水设备概述

电子厂超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备;是电子厂生产用超纯水制备*的装置。

电子行业高纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系标准的前提下，采用*的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水。控制系统选用PLC程序控制，可实现自动起停、加药及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于： 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。

目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

连续电除盐（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水。又可以比较清晰地描述如下：EDI是利用阴、阳离子膜，采用对称堆放的形式，在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂，分别在直流电压的作用下，进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生，使得纯水度越来越高，所以，轻而易举的产生了高纯度的超纯水。

液晶电子化工用EDI高纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

关键设备及材料均采用主流*可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

电子厂超纯水设备优点

1、 产水水质符合标准，稳定

2、 不间断制水，再生时不需要停机处理。

3、 处理过程中不需要化学的药剂再生。

4、 堆叠式设计，占地面积小。

5、 操作简单，安全。

6、 运行费用低，维修费用低。

7、 无酸碱储备及运输费用。

8、 全自动运行，无需专人看管。