无尘洁净室

有多种洁净等级及空间调配能够依据运用需求设计制造，因而其简洁运用弹性大安装简单且施工期短以及可移性为其主要特色，洁净棚一起可针对在一般等级的洁净室中局部地区需要高洁净度的当地部增设以降低成本。洁净棚是一种可提供局部高洁净环境的空气净化设备。洁净棚主要由箱体、风机、初效空气过滤器、阻尼层、灯具等组成，外壳喷塑。该产品既可悬挂，又可地上支撑，结构紧凑，运用方便。能够单个运用，也可多个衔接组成带状洁净区域。 洁净室的温湿度主要是依据工艺要求来断定，但在满意工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。跟着空气洁净度要求的进步，呈现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

湿度过高发生的问题更多，相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的灰尘化学吸附在外表耐难以铲除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的效果使粒子也简单吸附于外表，一起很多半导体器材简单发生击穿。关于硅片出产佳温度规模为35—45%。      

具体工艺对温度的要求今后还要列举，但作为总的准则看，由于加工精度越来越精密，所以对温度波动规模的要求越来越小。例如在大规模集成电路出产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热胀大系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性胀大，所以必须有±0.1度的恒温，一起要求湿度值一般较低，由于操作人员出汗今后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超越25度。 

无尘洁净室