郑州硅片清洗超纯水设备
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设备型号
YB-CCS-001 -
产水量
可根据用户要求而定 -
适用范围
电子半导体行业超纯水
产品介绍
郑州友邦的硅片清洗用超纯水设备具有产水水质稳定，操作简单，无废物排出等特点，满足了各个企业对液晶显示器清洗的用水需求。本文将介绍下硅片清洗用超纯水设备的相关知识，希望对广大用户有一定的帮助。
郑州友邦水处理设备有限公司系专业从事水处理技术开发，设备制造组装及销售的企业。公司以科技、质量为前提，真诚合作。集合一批专业从事各类水处理项目设计与相关设备的制造、安装、调试的素质工程人员。公司以坚持技术创新、质量创优、服务创佳的原则，以优质的产品和服务实现。我们的承诺：把您拥有的水变成您需要的水！
工艺设计
水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。树脂截留水中的溶存离子。被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。浓缩了的离子从废水流路中排出。无离子水从树脂/膜内流出。
设备特点
1.硅片清洗用超纯水设备的零部件均采用优质的产品。
2.质量可靠，整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。
3.自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。能耗低，水利用率高，运行成本低。结构合理，占地面积少。
4.膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。
5.*的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。
6.硅片清洗用超纯水设备的系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。
技术参数
电导率：2-10μS/cm(25℃)
PH值：6.5-9
水温度：5～35℃
总硬度：<0.5ppm
有机物：<0.5 ppm,TOC为零
氧化物：≤0.05ppm
铁、锰：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
