大容量等离子清洗机

大容量等离子清洗机简介

13.56MHz 高频输出的等离子清洗机，搭载 RIE·DP 双模式。

使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应 多种用途。

特征：● 可变更电极构造提高等离子效果。 ● 搭载高精度适配器，高性能RF 电源。 ● 可根据需求规格提供定制。

用途：硅晶圆的灰化及蚀刻 ● 基板表面污垢处理 ● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理 ● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗 ● 自然氧化膜·有机物去除 ● 界面活性处理 ● 表面污染物去除

规格 型号 V1000 V1000X V1000XS 等离子模式 DP/RIE 高频电源 13.56MHz 输出功率 Max1000W Max1000 & 1500W 有效电极尺寸 W280×D280mm W300×D300mm W400×D375mm 电极 平行平板 2段电极（独立） 平板（多目的） 反应气体 聚合控制器2系统（填充气路另行安装） 真空泵（标配） 约1000L/min 约1500L/min 1000 & 1500L/min 安全装置 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等