一、产品概述

纯水能将水中的导电介质大部分去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.2MΩ*cm（25℃）。

此工艺采用预处理、反渗透技术、纯化处理以及后级处理，多级过滤、离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，产水电阻率可达18.2MΩ*cm（25℃）。

二、超纯水设备的主要特点

1.产水水质高而具有较佳的稳定度.

2.不因再生而停机。

3.模块化生产，自动控制。

4.设备结构紧凑，占地面积小。

5.运行费用及维修成本低。

6.运行操作简单，劳动强度低。

三、适用范围

单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、导电玻璃、电池（蓄电池）、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水 。