大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪

　　大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪，德国总部直接采购，近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。

　　公司简介：

　　大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪，

　　KxS Technologies 致力于先进、最现代的液体浓缩技术，帮助半导体、生物加工、食品、糖、化学品以及纸浆和造纸行业的广泛客户生产更多高质量的消费产品。

　　KxS 专注于在线浓度监测技术的开发，并不断通过 DCM 过程折射仪取得突破，该折射仪设计坚固、体积小，可确保任何液体过程的可靠性和准确性。

主要型号：

　　DCM-10

芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品介绍：

　　大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品。

　　在整个晶圆厂分销链中，当需要平衡半导体化学浓度测量的成本、速度和准确性时，原位折射率已成为行业标准。KxS 半导体DCM-10 晶圆厂化学监测器经过设计，可以：

　　定义进料清洁化学品浓度和原始 CMP 浆料密度。

　　实现并确保在铜、钨和层间电介质平坦化应用中使用的胶体二氧化硅型 CMP 浆料中精确的 H2O2 浓度和 DI 水稀释度。

　　将浓度测量结果与缓冲氧化物蚀刻(BOE)等工艺中的晶圆蚀刻速率(ER)关联起来。

　　优化湿法带钢旋压工具中蚀刻后残留物消除剂(如 EKC265™)的使用寿命。

　　我们的半导体晶圆厂化学监测器适用于多种应用，包括：

　　SC-1 和 SC-2 的化学混合物校验和

　　使用 NH3 水混合物进行硬掩模蚀刻

　　使用 50% KOH 进行硅湿法蚀刻

　　使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蚀刻钛

　　使用 HF:HNO3 混合溶液蚀刻背面聚合物

　　使用各种混合物进行 CMP 后清洁

　　我们的技术能够监测各种关键的半导体化学品，包括但不限于：

　　过氧化氢(H2O2)

　　氢氧化铵(NH3水)

　　稀氢氟酸(HF)

　　磷酸(H3PO4)

　　盐酸(HCl)

　　氢氧化钠(NaOH)

　　硫酸(H2SO4)

　　N-甲基吡咯烷酮(NMP)

　　四甲基氢氧化铵 (TMAH)

　　异丙醇 (IPA)

　　氢氧化钾(KOH)

　　硝酸(HNO3)

　　聚乙二醇 (PEG)

　　柠檬酸(C6H8O7)

　　乙酸(CH3COOH)

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪优势特点

　　Ø 所有测量功能都集成在传感器中——无需发射器

　　Ø 监测器适用于多种应用

　　Ø 测量输出选项包括模拟和数字通信协议

　　Ø 可以通过传感器的数字端口连接各种尺寸的外部显示器。使用带有网络浏览器的计算机、平板电脑或手机访问传感器的诊断和设置。

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪主要应用：

　　大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪，利用 KxS Technologies 的先进解决方案和知识，在您的化学监测过程中体验精度和效率。。