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XMD2000 医药胶囊混悬液高剪切胶体磨
- 型号
- XMD2000
- 参数
- 应用领域:其它
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太仓希德机械科技有限公司坐落在享有“德企之乡”之称的太仓，公司成立伊始便与众多德资企业有技术方面的交流合作，通过结合德国*技术和科学管理模式，形成了完整的研发，组装，检测，及营销体系。着力打磨混合领域*产品，为客户提供*的流体设备和成套工艺技术解决方案，包括研磨、乳化、分散、均质、搅拌、混合、干燥、冷却、烧结、熔融等工艺，提供工业生产中真空乳化机成套设备、粉体自动化配料系统、交钥匙工程大成套设备、多功能成套生产系统工艺过程监测、DCS 控制技术等。
公司产品已广泛应用于食品工业、生物医药、日常护理品、纳米材料、涂料油墨、石油化工、印染助剂、造纸工业、农药化肥、塑料橡胶、电力电子，精细化工、等行业。在新型高分子材料化工材料、精细化工，如石墨烯，沥青，新型锂电池，化妆品，制药应用尤为显著及广泛。
公司位于风景优美的千年古镇沙溪镇，交通位置优越，公司处于G15沈海高速沙溪出口，距离沪通高铁太仓站10公里，距离上海虹桥枢纽（虹桥机场、高铁站）1小时车程，距离太仓港15公里。
“行有矩，为有道，事可成”是希德人给世界的承诺，服务万千用户，不忘初心，勇往直前。
详细信息
医药胶囊混悬液高剪切胶体磨
医药胶囊胶体磨，胶囊胶体磨 医药乳液胶体磨，软胶囊内容物研磨分散机，软胶囊内容物胶体磨，胶囊胶体磨，改良型胶体磨，医药混悬液胶体磨，此款医药改良型胶体磨不仅转速高达14000rpm，并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘，先研磨后分散，物料粒径更细，更稳定！
软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、用量精确、生物利用度高，药物的稳定性也得到提升，此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明，口服制剂的生物利用度，以内容物为溶液的软胶囊，混悬液次之，再次为含颗粒的硬胶囊，差为片剂。
近年来，超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域，通过研究发现，药材经过超微化粉碎后，粉末粒径大小分布均匀，球性度和均质度明显改善，这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中，质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展，对于胶囊的内容物的处理，出现的大量的设备，如：胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切，从内容物粒径更加细化，粉末分散更加均匀。而ikn应对这种情况，研发出了的设备，改良性胶体磨，该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点，将二者一体，形成的设备，我们也将它定义为“研磨分散机”
研磨分散机，对于软胶囊的生产有着巨大的优势，对于软胶囊内容物的处理十分有效，无论内容物是乳液还是混悬液，都可以将物料充分的细化，提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头，IKN改良型胶体磨，研磨分散机，有一级胶体磨头和一级分散盘，对物料先研磨后分散机，再配合14000rpm的转速，乳液粒径一般可细化至1-2微米，混悬液一般可细化至3-5微米，当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。
XMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是希德公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
改良型胶体磨，研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨，分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
XMD2000系列软胶囊内容物研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
XMD2000进口超高剪切研磨分散机
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。
一
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
以下为型号表供参考：
型号
标准流量
L/H
输出转速
rpm
标准线速度
m/s
马达功率
KW
进口尺寸
出口尺寸
XMD2000/4
400
18000
44
4
DN25
DN15
XMD2000/5
1500
10500
44
11
DN40
DN32
XMD2000/10
4000
7200
44
22
DN80
DN65
XMD2000/20
10000
4900
44
45
DN80
DN65
XMD2000/30
20000
2850
44
90
DN150
DN125
XMD2000/50
60000
1100
44
160
DN200
DN150
医药胶囊混悬液高剪切胶体磨
