研磨*药膏高剪切胶体磨

，管线式

*

胶体磨，高剪切医药胶体磨，三级超高速胶体磨，纳米高剪切胶体磨，胶体磨厂家

*化合物及其软胶囊

简介：

首先将罗*150重量份，油性基质100～150重量份；按重量比加入到配液罐中，混合均匀，过胶体磨；然后将罗*和油性基质的混合物冷冻至-25～-40℃，降温速度为2～15℃/min；抽真空，在2～6小时内升升温至15～25℃；然后置于频率为20～30KHz、功率为20～500W超声乳化仪中作用5～15分钟；zui后，制备罗*软胶囊的胶皮，注入药液，压丸、定型、擦丸、干燥。本发明的罗*软胶囊，其油性基质用量小，稳定性高。

研磨*药膏高剪切胶体磨

是SGN公司近年来新引进的高剪切超高速级胶体磨，该设备采用了三级定转子结构，定转子可根据客户物料需求随意组合，zui高配置可以将三套超细齿进行配合组装应用。再结合zui高可达14000rpm的超高转速，可以将设备的线速度提高到44m/s，将物料粒径处理到高剪切超高速级。思峻公司采用零部件进口方式，大大降低了设备组装成本，运输成本以及关税成本。

胶体磨的特点：

  1、处理量大，适合工业化在线连续生产

2、粒径分布范围窄，分散效果佳

3、省时、高效、节约能耗

4、噪音低，运转平稳

5、消除批次间生产的品质差异

6、*，物料98%通过分散剪切

7、水循环机械密封，密封效能好;

8、物料接触面采用316L不锈钢，抛光处理，达到GMP标准;

9、具有短距离、低扬程输送功能

10、使用简单，维修方便。

GM2000 系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成 的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的 距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

高剪切胶体磨的结构：

三道磨碎区：一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。

  高剪切胶体磨的磨头结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而国内胶体磨的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们德国进口胶体磨可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

 高剪切胶体磨特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，德国进口胶体磨在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。德国进口胶体磨GM2000整机采用几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

   高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的水平。

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

GM

2000/4

300-1，000

9，000

23

2.2

DN25

DN15

GM

2000/5

3，000

6，000

23

7.5

DN40

DN32

GM

2000/10

8，000

4，200

23

15

DN50

DN50

GM

2000/20

20，000

3，000

23

37

DN80

DN65

GM

2000/30

40，000

1，500

23

55

DN150

DN125

GM

2000/40

70，000

1，500

23

90

DN150

DN125

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。

4 本表的数据因技术改动，定制而不同，正确的参数以提供的实物为准。