超纯水设备

    此设备是将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，超纯水是一般工艺很难达到的,电阻率一般为10～18.3MΩ·cm.

常用工艺：

    1.RO+离子交换

    特点：适用于原水水质较好的条件，投资较少，自动化程度相对较低，适用于出水品质在10—15兆欧/厘米。

2.RO+EDI

    特点：自动化程度较高，出水品质稳定，适用于出水品质在15—17兆欧/厘米

    3. RO+EDI+抛光床。

    特点：自动化程度较高，投资较大，出水品质优良，适用于出水品质在17—18.3兆欧/厘米

为了保障您的实际生产需求，针对选择工艺，请咨询我司技术人员。

基本参数

指标

参数

EDI要求：

反渗透RO产水，电导率1-50μs/cm，允许电导率≤50μs/cm

pH值：

7.5—9

温度：

15℃--35℃

进水压力：

0.15—0.4MPa

浓水进水压力：

0.10—0.3MPa

产水压力：

0.05—0.25MPa

浓水出水压力：

0.02—0.2MPa

进水硬度：

＜1.0ppm(以CaCO 计）

进水有机物：

TOC＜0.5ppm

进水氧化剂：

Cl2（活性）＜0.03ppm

进水硅：

SiO2＜0.5ppm

进水总CO2：

＜3ppm

进水颗粒度：

＜1μm

产品特点

①产品水品质高，长期运行产品水水质稳定。

②自动化程度高，操作管理简单，劳动强度低

③不会因再生而停机，连续再生，无需停机。

④不需化学再生，无污水排废

⑤运行费用低，能耗低

⑥占地面积小，厂房投资少

应用行业

1、太阳能光伏行业：单/多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料等工用纯水和超纯水。

2、电子工业：半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、印刷电路板、液晶显示器、触摸屏、眼镜镜片、数码相机镜片、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用超纯水。

3、生物医药工业：生物技术用水、医药生产用水、生化制品用水、针剂、粉针剂、药剂、大输液、科研无菌水、口服液等符合GMP标准。

4、化工工业：化工工艺用水、化学试剂、化工生产用水、精细化工、化妆品、洗洁精、洗衣液、打印机墨水等生产工艺用纯水。