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CMSD2000 氧化铝高剪切胶体磨,氧化铝超高速研磨分散机,蓝宝石研磨机,三氧化二铝分散机
上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN*技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有*的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的*者。
公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的*供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为国家重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。
“追求*品质”是依肯公司的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。
氧化铝高剪切胶体磨,氧化铝超高速研磨分散机,蓝宝石研磨机,三氧化二铝分散机
,氧化铝研磨分散机,蓝宝石研磨分散机,三氧化二铝研磨分散机
,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
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氧化铝是将铝矾土原料经过化学处理,除去硅、铁、钛等的氧化物而制得,是纯度很高的氧化铝原料,Al₂O₃含量一般在99%以上。矿相是由40%~76%的γ- Al₂O₃和24%~60%的α- Al₂O₃组成。γ- Al₂O₃于950~1200℃可转变为α- Al₂O₃(刚玉),同时发生显著的体积收缩。红宝石、蓝宝石的主成份皆为氧化铝,因为其它杂质而呈现不同的色泽,蓝宝石则含有
氧化铁
和
氧化钛
而呈蓝色。
氧化铝研磨分散机有2个特点 一个研磨分散
研磨:利用剪切力(
shear force
)、摩擦力或冲击力(
impactforce)将粉体由大颗粒粉碎成小颗粒。
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分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒*被分离(separating
)、润湿(
wetting
)、分布(
distributing
)均匀及稳定(
stabilization)目的。
在做纳米粉体分散或研磨时,因为粉体尺度由大变小的过程中,范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响,是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。
纳米研磨分散机
是由胶体磨,
分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的
多
级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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氧化铝研磨分散机 的型号和
研磨分散机
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
120000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
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