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高剪切胶体磨
上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN*技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有*的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的*者。
公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的*供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为国家重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。
“追求*品质”是依肯公司的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。
胶体磨
高剪切胶体磨
胶体磨说明书
胶体磨结构
胶体磨原理
进口胶体磨
相
高剪切胶体磨工作原理:胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
带胶体磨
CM
模块的
LP
是高性能的带可调节研磨颗粒大小的设备,跟基本型一样,使用的也是定转子作用原理
.
但是研磨间隙的设计与基本型的不同
.
定转子间的研磨缝隙锥形的设计使得它能够通过转移定子来进行连续的调整
.
研磨缝隙的调整使得设备可以得到稳定的乳浊液和湿磨时得到微粒
.
缝隙可以用外罩上的调整环来手动调节
.
研磨工具由
2
部分标准的径向齿的组成
,
也就是转子和定子一前一后紧密排列
.
*层的齿比较粗糙并且有特殊的进料区域
.
第二层的齿非常精密
.
设备不能够自己进料
,
但是能够在出料口处形成压力克服真空进料
.
真空度取决于研磨缝隙的大小和定转子转速
.
跟基本型设备一样带
CM
模块的
LP
也可以通过
LP CONTROLLER
来调速
.
调节范围是
3160 rpm
到
13750 rpm.
zui高速时的zui大线速度可以达到约
40 m/s.
由于转子的线速度影响研磨效果
,
使用
LP CONTROLLER
使得设备可以适应不同的工艺需求
.
在
CM
胶体磨模块下启动时设备的初始速度必须是标准的
7900 rpm,
并且利用任何有利于基础速度的条件
.
有特定的物料或者产品特性
,
例如高粘度
,
设备使用极限功率达到非常高的速度
.
但是,要超过电机的额定电流较长时间
.
如果有必要速度要降,直到实际电流刚好不超过额定电流
.
额定电流可以由
LP CONTROLLER
显示屏读出
.
为了防止电机过载,电机应该由过热保护装置及时停止。