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GM2000 实验室高剪切研磨分散机
上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN*工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的*技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
“业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!
GM2000
实验室
高剪切
研磨分散机
高校研究院实验室胶体磨,试验室胶体磨,小型胶体磨,德国实验室胶体磨,高转速实验室胶体磨
此款实验室研磨分散机比普通的胶体磨的速度达到
4-5倍以上,研磨效果非常好,转速可以达到14000RPM。
高校研究院实验室胶体磨的研磨效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
:
1.胶体磨磨头头的剪切速率(越大,效果越好)
2.胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
3.物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
4.循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,便不能再好)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率
(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子
-定子间距。
IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm
速率
V=3.14XD(转子直径)X转速RPM/60
实验室胶体磨
,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
GM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 实验室胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
GM2000
实验室
高剪切
研磨分散机
设备选型表
:
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入
/出口连接
DN
GM2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
GM2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
GM2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
GM2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
GM2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
GM2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150